工业设备清洗，有人以为大型设备清洗是较难的，其实这是一个误区。真正比较难清洗的是那些十分精密的且易损坏的设备和材料，硅片半导体就是其中典型的代表。干冰小型清洗机，无污染，低研磨性，可以对于硅片半导体行业进行高效的清洗。
清洁硅片等不仅需要从硅片的表面去除杂质，而且还需要钝化硅晶片的表面以降低硅晶片表面的吸附能力。从理论上讲，高质量硅晶片的表面上没有颗粒，金属离子，水蒸气和氧化物层。另外，要求硅晶片的表面是平坦的。目前，大规模集成电路（LSI）已被广泛用于许多领域。
由于清洁硅材料不够，问题比率达到50，因此有必要优化硅晶片的清洁工艺。
硅晶片可以用干冰清洗吗？
当温度超过31.1C且压力达到7.38 MPa时，CO2处于超临界状态，可以从气体转化为固体。二氧化碳突然通过喷嘴从钢瓶中排出，压力下降，体积迅速膨胀。液态二氧化碳和气体的混合物产生干冰的固体颗粒，以清洁硅片。干冰颗粒具有去除有机颗粒和杂质的不同机制。
使用干冰小型清洗机喷射技术清洁硅晶片非常有效，不会损坏硅晶片的表面，也不会污染环境。这是一种理想的清洁技术。
