作为制造光伏电池和集成电路的基础，硅片的清洗非常重要。清洗效果直接影响到光伏电池和集成电路的最终性能、效率和稳定性。
清洗硅片不仅要去除硅片表面的杂质，还要对硅片表面进行钝化处理，降低硅片表面的吸附能力。理论上，高质量硅片表面不存在颗粒、金属离子、有机附着、水蒸气和氧化层。此外，要求硅片表面具有原子级平整度，硅片边缘的挂键通过氢键终止。目前，由于硅片清洗技术的缺陷，大规模集成电路（LSI）在许多领域得到了广泛的应用
ICS干冰清洗机|高效 环保 应用广泛
由于硅材料的清洁度不够，出现问题甚至失效的比例达到50%，因此有必要对硅片的清洗工艺进行优化。
硅片可以用干冰清洗机吗？
当温度超过31.1℃，压力达到7.38mpa时，CO2处于超临界状态，可以实现气固转换。二氧化碳通过喷嘴突然从气缸中喷出，压力下降，体积迅速膨胀，二氧化碳的恒定焓发生变化。二氧化碳的气液混合物产生固体干冰颗粒，从而实现硅片的清洗。干冰颗粒去除颗粒物和有机物杂质的机理不同。
采用干冰微粒清洗技术对硅片进行清洗效果十分理想，而且对硅片表面无损害，不会污染环境，是一种理想的清洗技术。
